★edi 系統概述
半導體材料、器件、印刷電路板和積體電路及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、超大規模積體電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。積體電路的整合度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把超純水裝置技術分為五個行業標準，分別為1mω.
cm、5mω.cm、10mω.cm、16mω.
cm、18mω.cm，以區分不同水質。
★製備電子工業用超純水的工藝流程
電子行業製備超純水的工藝大致分成以下幾種：
1、採用離子交換樹脂製備超純水的其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水幫浦→多介質過濾器→保安過濾器→陽床→陰床(復床)→混床→純水箱→純水幫浦→後置精密過濾器→用水點
2、採用反滲透水處理裝置與離子交換裝置其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水幫浦→多介質過濾器→保安過濾器→高壓幫浦→反滲透裝置→ro水箱→混床幫浦→混床→純水箱→純水幫浦→後置精密過濾器→用水點
3、採用反滲透水處理裝置與電去離子(edi)裝置，這是一種製取超純水的最新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水製備工藝，其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水幫浦→多介質過濾器→保安過濾器→高壓幫浦→反滲透裝置→ro水箱→(edi)幫浦→保安過濾器→紫外線→電去離子(edi)→純水箱→純水幫浦→後置精密過濾器→用水點
★edi裝置的特點
edi裝置不需要化學再生,可連續執行,進而不需要傳統水處理工藝的混合離子交換裝置再生所需的酸鹼液,以及再生所排放的廢水。其主要特點如下:
連續執行,(可達95%)無須酸鹼儲備和酸鹼稀釋運送設施
占地面積小使用安全可靠,避免工人接觸酸鹼降低執行及維護成本裝置單元模組化,可靈活的組合各種流量的淨水設施安裝簡單、費用低廉裝置初投資大
★edi裝置與混床離子交換裝置比較
edi裝置與混床離子交換裝置屬於水處理系統中的精處理裝置,下面將兩種裝置在產水水質、投資量及執行成本方面進行比較,來說明edi裝置在水處理中應用的優越性。
(1)產水水質比較
edi裝置是乙個連續淨水過程,因此其產品水水質穩定,電阻率最高可達18.25mωcm,達到超純水的指標。混床離子交換設施的淨水過程是間斷式的,在剛剛被再生後,其產品水水質較高,而在下次再生之前,其產品水水質較差。
(2)投資量比較
與混床離子交換設施相比edi裝置投資量要高約20%左右,但從混床需要酸鹼儲存、酸鹼新增和廢水處理設施及後期維護、樹脂更換來看,兩者費用相差在10%左右。隨著技術的提高與批量生產,edi裝置所需的投資量會大大的降低。另外,edi裝置裝置小巧,所需廠房遠遠小於混床。
(3)執行成本比較
edi裝置執行費用包括電耗、水耗、藥劑費及裝置折舊等費用,省去了酸鹼消耗、再生用水、廢水處理和汙水排放等費用。
在電耗方面,edi裝置約0.5kwh/t水,混床工藝約0.35kwh/t水,電耗的成本在電廠來說是比較經濟的,可以用廠用電的**核算。
在水耗方面,edi裝置產水率高,不用再生用水,因此在此方面執行費用低於混床。
至於藥劑費和裝置折舊費兩者相差不大。
總的來說,在執行費用中,edi裝置噸水執行成本在1.8元左右,常規混床噸水執行成本在3.2元左右,高於edi裝置。因此,edi裝置多投資的費用在1-2年內完全可以**。
EDI超純水裝置製備超純水優勢
超純水在電子行業 電鍍行業都是不可缺少的，其生產過程是都會涉及到超純水的使用，edi超純水裝置處理過的水出水水質電導率電阻率可以達到以上行業的使用標準。edi超純水裝置優勢 1 占地空間小，省略了混床和再生裝置 2 產水連續穩定，出水質量高，而混床在樹脂臨近失效時水質會變差 3 執行費用低，再生只耗...
簡述EDI純水裝置優勢及技術效能介紹
高純度水對許多任務商業工程非常重要，比如 半導體製造業和製藥業。以前這些工業用的純淨水是用離子交換獲得的。然而，膜系統和膜處理過程作為預處理過程或離子交換系統的替代品越來越流行。如電除鹽過程 edi 之類的膜系統可以很乾淨地去除礦物質並可以連續工作。而且，膜處理過程在機械上比離子交換系統簡單得多，並...
EDI超純水處理裝置的工作原理
電去離子 edi 系統主要是在直流電場的作用下，通過隔板的水中電介質離子發生定向移動，利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質進行提純的一種科學的水處理技術。電滲析器的一對電極之間，通常由陰膜，陽膜和隔板 甲 乙 多組交替排列，構成濃室和淡室 即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜 淡室水中陽離子向負極...